Zapisy na kurs od dnia 08.10.2018 do 10.10.2018
od godz. 9:00
Grupy i terminy:
| E06-12a | ETEW16011L | Praktyczne aspekty wytw. opr. | Czw 17:05-18:45 | C-4 | 345 |
| E06-12b | ETEW16011L | Praktyczne aspekty wytw. opr. | Śr 18:55-20:35 | C-4 | 345 |
| E06-13a | ETEW16011W | Praktyczne aspekty wytw. opr. | Śr 17:05-18:45 | C-4 | 41 |
W semestrze zimowym 2018/2019 oferowany jest kurs prowadzony przez specjalistów z firmy NOKIA z Wrocławia
- Praktyczne Aspekty Wytwarzania Oprogramowania (ETEW16011WL)
Kurs ma wymiar 30 godzin wykładu i 30 godzin laboratoryjnych, 3 ECTS. Jest to kurs dodatkowy (studenci mogą wykorzystać punkty ECTS z puli dodatkowych 30 ECTS).
Warunki zapisania się na kurs:
- Oferta jest kierowana do studentów wszystkich kierunków studiów:
- I stopnia wyłącznie od semestru trzeciego i wyższych
- II stopnia
- III stopnia
- Podstawowa umiejętność pracy w tekstowej konsoli Linux
- operacja na plikach, folderach w powłoce bash - dodawanie, usuwanie, kopiowanie, zmiana nazwy
- uruchamianie i edytowanie skryptów z poziomu powłoki Linuksa
- Firma Nokia rekomenduje bezpłatny kurs online: https://www.edx.org/course/introduction-linux-linuxfoundationx-lfs101x-2#.VMusFy50vlc
Szczegółowe informacje zostaną przekazane na pierwszym wykładzie w dniu 10 października 2018 r.
Opis treści programowych: ETEW16011WL
Kontakt: Anna.Birecka@pwr.edu.pl
