Zapisy na kurs od dnia 06.10.2017 do 09.10.2017
od godz. 9:00
Grupy i terminy:
|
E04-75a |
ETEW16011L |
Praktyczne aspekty wytw. opr. |
PN 15:15-17:50 |
C-4 |
345 |
|
E04-75b |
ETEW16011L |
Praktyczne aspekty wytw. opr. |
PN 18:00-20:35 |
C-4 |
345 |
|
E04-76a |
ETEW16011W |
Praktyczne aspekty wytw. opr. |
CZ 17:05-18:45 |
C-4 |
40 |
W semestrze zimowym 2017/2018 oferowany jest kurs prowadzony przez specjalistów z firmy NOKIA z Wrocławia
- Praktyczne Aspekty Wytwarzania Oprogramowania (ETEW16011WL)
Kurs ma wymiar 30 godzin wykładu i 30 godzin laboratoryjnych, 3 ECTS. Jest to kurs dodatkowy (studenci mogą wykorzystać punkty ECTS z puli dodatkowych 30 ECTS).
Warunki zapisania się na kurs:
· Oferta jest kierowana do studentów wszystkich kierunków studiów:
- I stopnia wyłącznie od semestru trzeciego i wyższych
- II stopnia
- III stopnia
· Podstawowa umiejętność pracy w tekstowej konsoli Linux
- operacja na plikach, folderach w powłoce bash - dodawanie, usuwanie, kopiowanie, zmiana nazwy
- uruchamianie i edytowanie skryptów z poziomu powłoki Linuksa
· Firma Nokia rekomenduje bezpłatny kurs online:
https://www.edx.org/course/introduction-linux-linuxfoundationx-lfs101x-2#.VMusFy50vlc
Opis treści programowych:
Zajęcia rozpoczną się od 9 października 2017r.
Kontakt: Anna.Birecka@pwr.edu.pl
